10月21-22日，第四届全国工业等离子体会议在我校图书馆110报告厅举行。本届会议由中国力学学会等离子体技术专业委员会主办，南方科技大学承办，我系何祝兵副教授担任组委会主席。

来自大连理工大学、中国科学技术大学、东华大学、哈尔滨工业大学、核工业西南物理研究院、中国科学院力学研究所、北京航空制造工程研究所等20余所高校和科研院所，以及数十家等离子体相关企业的近100名专家学者出席会议。会议期间组织了26场学术报告，与会专家学者共同交流探讨了工业等离子体技术的最新学术成果和技术应用，展望了工业等离子体技术的未来发展趋势。

参会专家合影

会议开幕式上，材料系主任程鑫教授致辞，对与会专家学者来到南科大参加本次会议表示热烈的欢迎，并向与会专家学者简要介绍了南科大及材料系在人才引进、人才培养、科学研究、未来发展战略等方面的基本情况。

材料系主任程鑫教授致辞

会议首先进行了三个特邀报告。其中，大连理工大学长江特聘教授王友年老师为大家作了题为“一种面向感性耦合工业等离子体源的快速仿真技术”的大会报告，介绍了电感耦合等离子体（ICP）和电容耦合等离子体（CCP）的模拟仿真技术进展以及它们在工业界的应用。

大连理工大学王友年教授作报告

中微（上海）半导体设备制造公司倪图强副总裁作了等离子体刻蚀技术最新进展的报告。报告还概述了全球半导体产业及其装备产业的发展周期，以及中国“十三五”期间将有超过450亿美元的半导体芯片和存储器投资规模，国内半导体产业将迎来井喷发展，半导体产业上下游将迎来巨大的机遇，并寄望南科大为中国半导体产业输送更多高素质人才。

中微半导体设备制造公司副总裁技术总监倪图强博士作报告

华星光电技术有限公司覃事建研发部长介绍了等离子体技术在平板显示产业中的工艺应用。覃部长指出，等离子体技术作为基础制造技术（例如等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、刻蚀技术、磁控溅射技术等），在现代以及未来的平板显示产业中都有着广泛且无可替代的应用，并希望中国等离子体技术装备产业获得快速发展，进一步丰富自主技术产业链，为中国平板显示产业提供技术支撑。

华星光电技术有限公司研发部部长覃事建先生作报告

随后，会议分阶段开展了其余23场学术报告。报告的精彩内容吸引了与会者的高度关注，主讲人与与会者的问答讨论气氛热烈。电子系汪飞教授参加本届会议并作题为“等离子刻蚀技术在MEMS器件中的应用”的精彩学术报告。此外，南科大多名教授及检测中心微纳加工洁净室的老师出席了本次会议。

报告日程结束后，22日下午，部分与会专家学者参观了位于深圳光明新区的华星光电技术有限公司，并展开了热烈的技术交流与研讨。

部分与会专家参观深圳华星光电技术有限公司

本届工业等离子体会议为从事等离子体领域技术研究与开发的专家学者献上了一场丰富的学术盛宴，研讨了先进等离子技术及其在半导体、平板显示、新材料、新能源、国防工业、航空航天等产业中的应用，加强了高校、研究院所与企业界的交流与合作。本次会议圆满完成。

本次会议得到学校会议基金、南科大材料系和南科大民盟支部的鼎力支持。